[发明专利]投射光刻的照明光学系统在审

专利信息
申请号: 201980078420.2 申请日: 2019-11-05
公开(公告)号: CN113168114A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: T.刚;J.范肖特 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B5/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投射 光刻 照明 光学系统
【权利要求书】:

1.一种用于照明照明场的投射光刻的照明光学系统(23),其中能够布置随后的成像光学系统(19)的物场(18),

-所述照明光学系统的光瞳分面反射镜(10)具有多个光瞳分面(11),其中,每个光瞳分面(11)被设计为用于引导照明光部分束(24i),

其中,

-对于被设计为选择性反射的分面的至少一些光瞳分面(11),以下适用:

--选择性反射的光瞳分面(11)具有用于所述照明光(3)的反射涂层(27)

--其中,在所述选择性反射的光瞳分面(11)的第一部分上的第一涂层区域(271)具有第一反射率(R1),

--其中,在所述选择性反射的光瞳分面(11)的第二部分上的第二涂层区域(272)具有第二反射率(R2),

--其中,所述第一涂层区域(271)与所述第二个涂层区域(272)不同,

--其中,所述第一反射率(R1)与所述第二反射率(R2)不同和/或

-对于被设计为宽带反射的光瞳分面的至少一些光瞳分面(11),以下适用:

--宽带光瞳分面(11)具有用于所述照明光(3)的宽带反射涂层(28)。

2.根据权利要求1所述的照明光学系统,

-其中,在所述选择性反射的光瞳分面(11)的第三部分上的第三涂层区域(273)具有其他反射率(R3),其中,所述第三涂层区域(273)与所述第一涂层区域和所述第二涂层区域(271,272)不同

-其中,所述其他反射率(R3)与所述第二反射率(R2)不同。

3.根据权利要求1或2所述的照明光学系统,其中,不同涂层区域中的两个相邻涂层区域(271,272;272,273)的反射率连续地合并入彼此。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的照明光学系统,其中,所述光瞳分面反射镜(10)的所述光瞳分面(11)被布置为使得所述光源的像出现在沿所述照明通道距所述光瞳分面一距离的像位置处。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的照明光学系统,其中,所述照明光学系统(23)还具有场分面反射镜(6),其中,所述场分面反射镜(6)的场分面(7)在所述光瞳分面反射镜(10)的光瞳分面(11)的贡献下重叠地成像到照明场上。

6.一种照明系统,具有如权利要求1至5中任一项所述的照明光学系统(23)以及将所述物场(18)成像到像场(20)上的成像光学系统(19)。

7.一种投射曝光系统(1),具有如权利要求6所述的照明系统以及照明光源(2)。

8.一种制造结构化部件的方法,具有以下步骤:

-提供晶片(22),在所述晶片上至少部分地施加光敏感材料的层;

-提供具有待成像结构的掩模母版(17),

-提供如权利要求7所述的投射曝光系统(1),

-借助于所述投射曝光系统(1)将所述掩模母版(17)的至少一部分投射到所述晶片(22)的层的区域上。

9.一种由如权利要求8所述的方法制造的结构化部件。

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