[发明专利]确定整个图案形成装置或衬底上的标记布局在审
| 申请号： | 201980076671.7 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN113168110A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | P·斯马尔;I·M·索科尔;G·萨尔马 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于确定整个图案形成装置或衬底上的标记位置的布局的方法，该方法包括：a)获取(502)被配置为对与在一个或多个标记位置处的图案形成装置或衬底上执行的测量相关联的数据进行建模的模型；b)获取(504)包括初始标记位置的初始标记布局(506)；c)通过去除一个或多个标记位置来减小(508)初始标记布局以获取多个减少的标记布局(510)，每个减少的标记布局是通过从初始标记布局中去除不同标记位置而获取的；d)针对上述多个减少的标记布局中的每个减少的标记布局确定(512)与模型的使用相关联的模型不确定性度量；以及e)基于其相关联的模型不确定性度量来选择(514)一个或多个减少的标记布局(516)。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 整个 图案 形成 装置 衬底 标记 布局 | ||
【主权项】：
暂无信息
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