[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 201980076001.5 | 申请日： | 2019-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN113166327A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 王惠瑜;丹吴直紘;高桥秀知;后藤研由;川端健志;吉村务 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/28 | 分类号： | C08F220/28;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种所形成的图案的截面形状的矩形性优异，并且在制备后随着时间的经过，所形成的图案的线宽尺寸也不易发生变动的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂，通过酸的作用分解而极性增大；化合物，通过光化射线或放射线的照射而产生酸；以及卤素系溶剂，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，相对于组合物的总质量，上述卤素系溶剂的含量为1质量ppb以上且50质量ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
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