[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含：

树脂，通过酸的作用分解而极性增大；

化合物，通过光化射线或放射线的照射而产生酸；以及

卤素系溶剂，

所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，

相对于组合物的总质量，所述卤素系溶剂的含量为1质量ppb以上且50质量ppm以下。

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

相对于组合物的总质量，所述卤素系溶剂的含量为1质量ppb以上且10质量ppm以下。

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

相对于组合物的总质量，所述卤素系溶剂的含量为1质量ppb以上且1质量ppm以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，

其还包含金属原子，

相对于组合物的总质量，所述金属原子的含量为1质量ppt以上且30质量ppb以下。

5.根据权利要求4所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

相对于组合物的总质量，所述金属原子的含量为1质量ppt以上且10质量ppb以下。

6.根据权利要求4或5所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

相对于组合物的总质量，所述金属原子的含量为1质量ppt以上且1000质量ppt以下。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂包含选自由树脂X1～树脂X3组成的组中的1种以上，

树脂X1：包含来源于选自下述单体组A中的1种以上的单体的重复单元A以及来源于选自下述单体组B中的1种以上的单体的重复单元B的树脂，

树脂X2：包含来源于选自下述单体组A中的1种以上的单体的重复单元A、来源于选自下述单体组B中的1种以上的单体的重复单元B以及来源于选自下述单体组C中的1种以上的单体的重复单元C的树脂，

树脂X3：包含含有芳环的重复单元、来源于选自下述单体组A中的1种以上的单体的重复单元A以及来源于选自下述单体组B中的1种以上的单体的重复单元B中的至少一个重复单元的树脂，

单体组A：

单体组B：

单体组C：

8.根据权利要求7所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述单体组A为下述单体组A1，

单体组A1：

9.根据权利要求7或8所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述单体组B为下述单体组B1，

单体组B1：

10.根据权利要求7至9中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述单体组C为下述单体组C1，

单体组C1：

11.根据权利要求7至10中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

包含所述芳环的重复单元包括来源于下述式(d-1)及下述式(d-2)中的至少一个单体的重复单元，

12.根据权利要求1至11中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂是选自由下述式(A-1)、下述式(A-3)、下述式(A-4)、下述式(A-6)、下述式(A-8)、下述式(A-12)、下述式(A-13)、下述式(A-14)、下述式(A-16)、下述式(A-19)、下述式(A-41)、下述式(A-42)、下述式(A-43)、下述式(A-46)及下述式(A-48)组成的组中的树脂，