[发明专利]真空处理装置有效
| 申请号： | 201980064174.5 | 申请日： | 2019-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN112789366B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 藤井佳词 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/285 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红;秦岩 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空处理装置，其在真空室内用热板将台架上设置的被处理基制在比室温高的规定温度的同时实施真空处理的情况下，可尽量抑制例如导致薄膜劣化这类对真空处理的不良影响。台架(4)具有基台(41)和设置在该基台上可加处理基板(Sw)的热板(43)，还包括留出规定间隙地围绕该热板的金属材质的盘(7)和防着板(8)。与热板相对的盘形环的表面部分采用通过在其基材金属上实面处理而降低了辐射率的低辐射率层(73)构成。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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