[发明专利]自动分析装置和清洗方法在审
| 申请号： | 201980056401.X | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN112639487A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 深谷昌史;平野匡章;安居晃启 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G01N35/10 | 分类号： | G01N35/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 丁文蕴;金成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 清洗槽(19、20、21)具有：向喷嘴(10、12、14)的表面喷出清洗水的清洗位置(25a、25b、25c)；对喷嘴(10、12、14)的表面附着的清洗水进行抽吸的干燥位置(26a、26b、26c)，控制装置(24)在喷嘴(10、12、14)的从清洗位置(25a、25b、25c)向干燥位置(26a、26b、26c)的移动过程中进行从喷嘴(10、12、14)的第一次的系统水的喷出，在干燥位置(26a、26b、26c)的对喷嘴(10、12、14)表面的清洗水的抽吸过程中进行从喷嘴的第二次的系统水的喷出。由此，能够将在喷嘴的清洗时附着的水滴有效地除去。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 分析 装置 清洗 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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