[发明专利]自动分析装置和清洗方法在审

专利信息
申请号: 201980056401.X 申请日: 2019-07-02
公开(公告)号: CN112639487A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 深谷昌史;平野匡章;安居晃启 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N35/10 分类号: G01N35/10
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;金成哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 自动 分析 装置 清洗 方法
【权利要求书】:

1.一种自动分析装置,其具备:喷嘴,其将分注对象分注到使分析对象的试样和试剂进行反应的反应容器;测定部,其测定上述反应容器的上述试样和上述试剂的反应液;清洗槽,其进行上述喷嘴的清洗;以及控制装置,其控制上述喷嘴、上述测定部及上述清洗槽的动作,

上述自动分析装置的特征在于,

上述清洗槽具有:

向上述喷嘴的表面喷出清洗水的清洗位置;以及

抽吸上述喷嘴的表面附着的清洗水的干燥位置,

上述控制装置在上述喷嘴的从上述清洗位置向上述干燥位置的移动过程中进行从上述喷嘴的第一次的系统水的喷出,在上述干燥位置的上述喷嘴的表面的清洗水的抽吸过程中进行从上述喷嘴的第二次的系统水的喷出。

2.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,

上述清洗槽具有将上述喷嘴插入上述干燥位置的干燥口,

上述干燥口的内径为上述喷嘴的外径的三倍以下。

3.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,

在上述干燥位置的第二次的系统水的喷出中从上述喷嘴喷出的系统水的量,比在从上述清洗位置向上述干燥位置的移动过程中的第一次的系统水的喷出中从上述喷嘴喷出的系统水的量少。

4.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,

在上述干燥位置的第二次的系统水的喷出中从上述喷嘴喷出的系统水的喷出速度相对于在从上述清洗位置向上述干燥位置的移动过程中的第一次的系统水的喷出中从上述喷嘴喷出的系统水的喷出速度为50%以下。

5.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,

根据上述喷嘴在上述干燥位置的停留时间和系统水从上述喷嘴的喷出速度来确定在上述干燥位置的第二次的系统水的喷出中从上述喷嘴喷出的系统水的量的上限值。

6.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,

根据上述喷嘴的前端的外径来确定在上述干燥位置的第二次的系统水的喷出中从上述喷嘴喷出的系统水的量的下限值。

7.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,

根据上述喷嘴的前端的内径来确定在上述干燥位置的第二次的系统水的喷出中从上述喷嘴喷出的系统水的量的下限值。

8.一种清洗方法,是自动分析装置的清洗方法,该自动分析装置具备:喷嘴,其将分注对象分注到使分析对象的试样和试剂进行反应的反应容器;测定部,其测定上述反应容器的上述试样和上述试剂的反应液;清洗槽,其进行上述喷嘴的清洗;以及控制装置,其控制上述喷嘴、上述测定部及上述清洗槽的动作,上述清洗槽具有:向上述喷嘴的表面喷出清洗水的清洗位置;以及抽吸上述喷嘴的表面附着的清洗水的干燥位置,

上述清洗方法的特征在于,具有:

在上述喷嘴的从上述清洗位置向上述干燥位置的移动过程中进行从上述喷嘴的第一次的系统水的喷出的步骤;以及

在上述干燥位置的上述喷嘴的表面的清洗水的抽吸过程中进行从上述喷嘴的第二次的系统水的喷出的步骤。

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