[发明专利]用于覆盖用于SiC层沉积的装置的基座的指向过程室的侧面的盖板在审
| 申请号： | 201980047276.6 | 申请日： | 2019-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN112424394A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | B.D.赖特;B.奥尼尔 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C30B25/12;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 任丽荣 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在平坦的衬底(8)上沉积层的装置，其具有可由加热设备(6)加热的基座(1)，在基座的面向过程室的顶侧面上布置有衬底(8)和包围衬底的盖板(10,15,16)，其中，内盖板(10)分别形成邻接在衬底(8)的面向所述基座(1)的中心(M)的边缘(8’)上的边缘(20)，并且两个在围绕所述中心(M)的周向上并排布置的盖板(10)在分界缝(11)上相互邻接。根据本发明建议分界缝(11)以角度α相对于沿径向穿过所述基座(1)的中心(M)和所述衬底(8)的中心(13)划出的径向线角度错移地延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 覆盖 sic 沉积 装置 基座 指向 过程 侧面 盖板 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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