[发明专利]用于以含碳层对基底覆层的设备有效
申请号: | 201980040329.1 | 申请日: | 2019-04-30 |
公开(公告)号: | CN112567068B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | A·朱弗雷;M·佩里 | 申请(专利权)人: | 艾克斯特朗欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/54;C23C16/46;C23C14/56;C23C16/44;B01J3/03;F16J15/16;F16K3/316 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
地址: | 德国黑*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于在带状的连续的基底(2)上沉积石墨烯、碳纳米管或其它尤其含碳的层的设备,所述基底(2)通过入口(12)进入反应器壳体(1)并且通过出口(12’)离开反应器壳体(1),所述基底(2)沿传输方向从入口(12)经过布置在所述反应器壳体(1)中的、由控温装置(8)调温的处理区(5)被传输到出口(12’)。按照本发明,在所述处理区(5)与入口(12)之间和/或在所述处理区(5)与出口(12')之间布置有阻隔热传递的器件(14,15,16,17),通过所述阻隔热传递的器件减小从所述处理区(5)到入口(12)或出口(12’)的热传递。此外,设有导引元件(11),用于将基底(2)导引入直接与开口(12,12’)邻接的区域中。 | ||
搜索关键词: | 用于 含碳层 基底 覆层 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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