[发明专利]用于以含碳层对基底覆层的设备有效

专利信息
申请号: 201980040329.1 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN112567068B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: A·朱弗雷;M·佩里 申请(专利权)人: 艾克斯特朗欧洲公司
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/54;C23C16/46;C23C14/56;C23C16/44;B01J3/03;F16J15/16;F16K3/316
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 侯宇
地址: 德国黑*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于在带状的连续的基底(2)上沉积石墨烯、碳纳米管或其它尤其含碳的层的设备,所述基底(2)通过入口(12)进入反应器壳体(1)并且通过出口(12’)离开反应器壳体(1),所述基底(2)沿传输方向从入口(12)经过布置在所述反应器壳体(1)中的、由控温装置(8)调温的处理区(5)被传输到出口(12’)。按照本发明,在所述处理区(5)与入口(12)之间和/或在所述处理区(5)与出口(12')之间布置有阻隔热传递的器件(14,15,16,17),通过所述阻隔热传递的器件减小从所述处理区(5)到入口(12)或出口(12’)的热传递。此外,设有导引元件(11),用于将基底(2)导引入直接与开口(12,12’)邻接的区域中。
搜索关键词: 用于 含碳层 基底 覆层 设备
【主权项】:
暂无信息
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