[发明专利]真空沉积设备和用于涂覆基底的方法在审
| 申请号： | 201980039758.7 | 申请日： | 2019-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN112400034A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 塞尔焦·帕切;布鲁诺·施米茨;迪迪埃·马尔内夫;埃里奇·西尔伯贝格 | 申请（专利权）人： | 安赛乐米塔尔公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/16;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人： | 董文国 |
| 地址： | 卢森堡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在移动的基底S上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的真空沉积设备1，所述设备包括：蒸发坩埚4，所述蒸发坩埚4适合于供给金属或金属合金蒸气并且包括蒸发管7；沉积室2，所述沉积室2适合于使基底S沿着给定路径P移动通过；和蒸气喷射涂覆机3，所述蒸气喷射涂覆机3将蒸发管与沉积室连接，其中所述蒸气喷射涂覆机还包括再分配室31和蒸气排放孔32，所述再分配室31包括定位在所述再分配室内的至少一个再加热装置33，所述蒸气排放孔32包括底部开口，所述底部开口将蒸气排放孔与再分配室连接；顶部开口，经由所述顶部开口，蒸气可以在沉积室中离开；和两个侧面，所述两个侧面在顶部开口的方向上朝向彼此会聚。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 沉积 设备 用于 基底 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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