[发明专利]真空沉积设备和用于涂覆基底的方法

权利要求书

1.一种用于在移动的基底(S)上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的真空沉积设备(1)，所述设备包括：

-蒸发坩埚(4)，所述蒸发坩埚(4)适合于供给金属或金属合金蒸气并且包括蒸发管(7)，

-沉积室(2)，所述沉积室(2)适合于使所述基底(S)沿着给定路径(P)移动通过，和

-蒸气喷射涂覆机(3)，所述蒸气喷射涂覆机(3)将所述蒸发管与所述沉积室连接，

其中所述蒸气喷射涂覆机还包括：

-再分配室(31)，所述再分配室(31)从所述蒸发管横向地延伸并且横跨所述给定路径的宽度并且包括定位在所述再分配室内的至少一个再加热装置(33)，以及

-蒸气排放孔(32)，所述蒸气排放孔(32)包括底部开口(9)，所述底部开口(9)将所述蒸气排放孔与所述再分配室连接；顶部开口(10)，经由所述顶部开口(10)，所述蒸气能够在所述沉积室中离开；和两个侧面(11、12)，所述两个侧面(11、12)将所述底部开口与所述顶部开口连接，其中所述蒸气排放孔的所述侧面在所述顶部开口的方向上朝向彼此会聚。

2.根据权利要求1所述的真空沉积设备，其中所述蒸气排放孔的沿垂直于其长度的平面的截面为梯形。

3.根据权利要求2所述的真空沉积设备，其中所述蒸气排放孔的沿垂直于其长度的平面的截面为等腰梯形。

4.根据权利要求3所述的真空沉积设备，其中所述等腰梯形的底角的值大于60°。

5.根据权利要求1所述的真空沉积设备，其中所述蒸气排放孔(32)的所述侧面(11、12)在所述顶部开口10的方向上朝向彼此呈指数会聚。

6.根据权利要求5所述的真空沉积设备，其中所述底部开口(10)与各侧面(11、12)之间的角度的值在所述蒸气排放孔的出口处大于60°。

7.根据前述权利要求中任一项所述的真空沉积设备，其中所述蒸气排放孔的所述底部开口(9)的宽度与所述顶部开口(10)的宽度之间的比率为1.6至2.4。

8.根据前述权利要求中任一项所述的真空沉积设备，其中侧面长度与底部开口宽度之间的比率为4至8。