[发明专利]氟化物皮膜形成用铝合金材料及具有氟化物皮膜的铝合金材料有效

专利信息
申请号: 201980038108.0 申请日: 2019-04-19
公开(公告)号: CN112236536B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 村濑功 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: C22C21/06 分类号: C22C21/06;C22C21/02;C23C8/08;C23C28/04;C25D11/04;C25D11/18;C22F1/047;C22F1/05
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘航;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供没有黑色的点状隆起部的产生而平滑性优异并且针对腐蚀性气体和等离子体等具备优异的耐蚀性的氟化物皮膜形成用铝合金材料。一种半导体制造装置用的氟化物皮膜形成用铝合金材料(1),含有Si:0.3质量%~0.8质量%、Mg:0.5质量%~5.0质量%、Fe:0.05质量%~0.5质量%,Cu的含有率为0.5质量%以下,Mn的含有率为0.30质量%以下,Cr的含有率为0.30质量%以下,余量包含Al及不可避免的杂质,在将铝合金材料中的Fe系结晶物的平均长径设为D(μm),将所述铝合金材料中的平均晶体粒径设为Y(μm)时,满足log10Y‑0.320D+4.60的关系式。在所述氟化物皮膜形成用铝合金材料(1)的表面的至少一部分形成氟化物皮膜(2)。
搜索关键词: 氟化物 皮膜 形成 铝合金 材料 具有
【主权项】:
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