[发明专利]电子器件及其制造方法在审
| 申请号： | 201980036162.1 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN112205076A | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 牧岛幸宏;井宏元;石代宏 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/04 | 分类号： | H05B33/04;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/44;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明要解决的技术问题是提供一种电子器件及其制造方法，该电子器件至少具备有机功能层和密封层，其抑制该密封层形成时使用的溶剂向有机功能层的渗透，防止发光功能损害(例如，黑点)，并且有机功能层和密封层的密合性优异。本发明的电子器件，其为至少具有有机功能层和密封层的电子器件，其中，所述密封层含有聚硅氮烷及其改性物，且在所述有机功能层和所述密封层之间，设置有含有光固化型或热固化型聚合物的中间层。 | ||
| 搜索关键词： | 电子器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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