[发明专利]用于CVD腔室的气体箱

摘要

本公开的实施例涉及用于通过CVD工艺来改善沉积在基板上的膜的质量的设备。更具体地，分支气体馈送组件均匀地分配进入环形气室的工艺气体。具有基本上相等的流导率的第一多个导管中的每个导管与具有基本上相等的流导率的第二多个导管中的一个或多个导管流体连通。第二多个导管中的每个导管终止于多个出口的一个出口处。多个出口中的每个出口与形成在环形气室中的多个入口端口中的一个或多个入口端口流体连通。多个入口端口中的每个入口端口围绕环形气室的中心轴等距隔开。