[发明专利]半导体装置用Cu合金接合线有效

专利信息
申请号: 201980020738.5 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN111886685B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 小山田哲哉;宇野智裕;山田隆;小田大造 申请(专利权)人: 日铁化学材料株式会社;日铁新材料股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;C22C9/00;C22C9/06
代理公司: 北京天达共和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11586 代理人: 张嵩;薛仑
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供一种能够满足高密度LSI用途下的要求性能的半导体装置用Cu合金接合线。本发明的半导体装置用Cu合金接合线的特征在于,线表面的晶体取向中的、相对于与包含线中心轴的1个平面垂直的方向角度差为15度以下的<100>晶体取向、<110>晶体取向、<111>晶体取向的存在比率以平均面积率计分别为3%以上且小于27%。
搜索关键词: 半导体 装置 cu 合金 接合
【主权项】:
暂无信息
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