[发明专利]具有处理器和静态随机存取存储器的键合半导体器件及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201980002022.2 申请日: 2019-09-11
公开(公告)号: CN110770901A 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 刘峻 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L23/485;H01L21/60
代理公司: 11376 北京永新同创知识产权代理有限公司 代理人: 林锦辉;刘景峰
地址: 430074 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 公开了半导体器件的实施例及其制造方法。在示例中,一种半导体器件,包括:第一半导体结构,包括处理器和第一键合层,所述第一键合层包括多个第一键合接触部。所述半导体器件还包括第二半导体结构,所述第二半导体结构包括静态随机存取存储器(SRAM)单元的阵列和第二键合层,所述第二键合层包括多个第二键合接触部。所述半导体器件还包括键合界面,所述键合界面在所述第一键合层和所述第二键合层之间。所述第一键合接触部在所述键合界面处与所述第二键合接触部接触。
搜索关键词: 键合层 半导体器件 键合 半导体结构 键合界面 静态随机存取存储器 处理器 制造
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:/n第一半导体结构,包括处理器和第一键合层,所述第一键合层包括多个第一键合接触部;/n第二半导体结构,包括静态随机存取存储器(SRAM)单元的阵列和第二键合层,所述第二键合层包括多个第二键合接触部;以及/n键合界面,在所述第一键合层和所述第二键合层之间,其中,所述第一键合接触部在所述键合界面处与所述第二键合接触部接触。/n
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