[发明专利]发光基板及其制作方法、电子装置在审

专利信息
申请号: 201980000435.7 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN110168736A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 姜明宵;周伟峰;宁策 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/15
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王晓燕
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种发光基板及其制作方法以及电子装置,该方法包括:利用第一掩模通过构图工艺形成像素界定层,其中,所述像素界定层包括开口和界定所述开口的分隔部;形成第一电极,其中,所述第一电极包括覆盖至少部分所述分隔部的第一部分且包括位于所述开口内的第二部分;以及利用所述第一掩模通过构图工艺形成辅助电极,其中,所述辅助电极与所述第一电极电连接,所述辅助电极位于所述分隔部上。在本公开实施例提供的发光基板的制作方法中,无需单独准备用于形成该辅助电极的掩模,简化形成辅助电极的工艺,并节省了制作掩模的成本。
搜索关键词: 辅助电极 掩模 第一电极 发光基板 分隔部 像素界定层 开口 电子装置 构图工艺 制作 电连接 界定 覆盖
【主权项】:
1.一种发光基板的制作方法,包括:利用第一掩模通过构图工艺形成像素界定层,其中,所述像素界定层包括开口和界定所述开口的分隔部;形成第一电极,其中,所述第一电极包括覆盖至少部分所述分隔部的第一部分且包括位于所述开口内的第二部分;以及利用所述第一掩模通过构图工艺形成辅助电极,其中,所述辅助电极与所述第一电极电连接,所述辅助电极位于所述分隔部上。
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