[发明专利]用于静电放电(ESD)保护的低电容和高保持电压瞬态电压抑制器(TVS)器件有效

专利信息
申请号: 201980000363.6 申请日: 2019-03-11
公开(公告)号: CN110062960B 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 马晨月;任俊杰;霍晓 申请(专利权)人: 香港应用科技研究院有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/861
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国香港新界沙田香港*** 国省代码: 香港;81
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摘要: 一种无阱的瞬态电压抑制器(TVS)硅控整流器(SCR),其P+阳极区不在N阱中。P+阳极区20被表面附近的N+隔离区围绕,并且下面的深N+区形成在p‑衬底中。N+阴极区形成在p‑衬底中。深N+区的掺杂为5x1018至5x1019/cm3,相比之下,典型N阱的掺杂为1x1016/cm3,或者p‑衬底的掺杂为1x1013至1x1015/cm3。深N+区中的高掺杂导致复合电流,其可以分流一半阳极电流。由于深N+区比N阱浅得多,因此侧壁电容大大减小,允许更高速的应用。
搜索关键词: 用于 静电 放电 esd 保护 电容 保持 电压 瞬态 抑制器 tvs 器件
【主权项】:
1.一种无阱的瞬态电压抑制器(TVS)硅控整流器(SCR)器件,包括:p‑衬底;深N+区,其形成在所述p‑衬底中;P+阳极区,其形成在所述p‑衬底中的所述深N+区上方;N+隔离区,其围绕所述P+阳极区,并形成在所述p‑衬底中的所述深N+区上方;N+阴极区,其形成在所述p‑衬底中;其中所述深N+区的掺杂浓度比所述p‑衬底的掺杂浓度大至少10,000倍。
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