[发明专利]膜层的构图方法、微流控器件及其制作方法有效
| 申请号： | 201980000016.3 | 申请日： | 2019-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN111886197B | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 耿越;肖月磊;廖辉;蔡佩芝;李建;吴申康 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王晓燕 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种膜层的构图方法，包括：提供具有第一表面(11)的膜层(1)；在膜层(1)的第一表面(11)上形成n个刻蚀阻挡层(21，22)，n为大于等于2的整数；以及利用n个刻蚀阻挡层(21，22)作为掩模对膜层(1)进行n次刻蚀而在第一表面(11)上形成凹陷结构，凹陷结构包括n种深度(h1，h2)不同的底面(1001，102)，所述深度(h1，h2)是在垂直于膜层(1)的方向上从不同底面(1001，102)到第一表面(11)的距离，n次刻蚀中的相邻两次刻蚀包括在前刻蚀和在后刻蚀，在完成在前刻蚀之后，去除n个刻蚀阻挡层(21，22)的一部分以形成在后刻蚀的掩模，其中n个刻蚀阻挡层(21，22)的被去除的部分的材料与在后刻蚀的掩模的材料至少部分不同。该膜层构图方法在满足精度要求的同时，制作工艺简单，生产效率较高。 | ||
| 搜索关键词： | 构图 方法 微流控 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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