[实用新型]光掩模板贴膜压合用模具头及蒙贴装置有效
| 申请号: | 201922346890.2 | 申请日: | 2019-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN211149181U | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
| 发明(设计)人: | 陈新晋 | 申请(专利权)人: | 芯恩(青岛)集成电路有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48 |
| 代理公司: | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人: | 陈敏 |
| 地址: | 266555 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码: | 山东;37 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型公开一种光掩模板贴膜压合用模具头及具有该模具头的蒙贴装置,所述模具头包括:压板,所述压板的下表面设有第一压力组件与第二压力组件,所述第一压力组件和第二压力组件分别环绕于所述压板的下表面,所述第一压力组件、第二压力组件之间的空隙构成压力接触部;所述压力接触部的形状与所述掩模板保护膜的框架相匹配。它旨在解决掩模板保护膜蒙贴至光掩模板过程中掩模板保护膜框架受力不均的问题。 | ||
| 搜索关键词: | 模板 贴膜压 合用 模具 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





