[实用新型]一种新型沟槽IGBT芯片有效
申请号: | 201922047732.7 | 申请日: | 2019-11-25 |
公开(公告)号: | CN210743951U | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 周炳;赵承杰;许新佳 | 申请(专利权)人: | 张家港意发功率半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739 |
代理公司: | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 215600 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型沟槽IGBT芯片,包括集电极,集电极上设置有P+集电极区,P+集电极区上设置有N型衬底,N型衬底上设置有N‑场截止层,N‑场截止层上设置有P基区,P基区上设置有P+欧姆接触区,P+欧姆接触区上设置有发射极,P基区和P+欧姆接触区上均设置有N+型源区,N‑场截止层、P基区以及N+型源区上均设置有沟槽,沟槽内设置有栅氧化层,栅氧化层内设置有栅极,发射极与N+型源区、栅氧化层和栅极之间设置有夹层。该新型沟槽IGBT芯片,通过沟槽栅结构结合N型衬底、N‑场截止层和发射极为纵向分布结构,使得总耗能更低,开关行为更加轻柔,并且整体体型也变小,减少占用面积。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 沟槽 igbt 芯片 | ||
【主权项】:
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