[实用新型]一种PECVD设备的炉门结构

摘要

本实用新型公开了一种PECVD设备的炉门结构，包括：炉体；封闭结构，固定安置于炉体一端上方；辅助密封结构，分别固定安置于炉体一端下壁；还包括：支撑台，所述支撑台固定焊接于炉体下壁，且位于中心部位处，本实用新型涉及PECVD设备技术领域，通过控制液压缸的伸长驱动，使密封门垂直向下移动设定距离，并借助密封圈对炉体进行密封；再通过控制气缸的伸长驱动，使压紧杆在安装杆一端进行翻转，并使一端挤压在密封门前后右侧壁前后两端，使密封门受力贴近密封圈防止泄露；当打开时，同上述原理相同，驱动控制方向相反，使密封门体上升到炉体上方；该设计不仅可使炉体进行密封，防止泄露，且方便驱动，避免人体以及密封门与送片机相撞。