[实用新型]一种PECVD设备的炉门结构

说明书

本实用新型公开了一种PECVD设备的炉门结构，包括：炉体；封闭结构，固定安置于炉体一端上方；辅助密封结构，分别固定安置于炉体一端下壁；还包括：支撑台，所述支撑台固定焊接于炉体下壁，且位于中心部位处，本实用新型涉及PECVD设备技术领域，通过控制液压缸的伸长驱动，使密封门垂直向下移动设定距离，并借助密封圈对炉体进行密封；再通过控制气缸的伸长驱动，使压紧杆在安装杆一端进行翻转，并使一端挤压在密封门前后右侧壁前后两端，使密封门受力贴近密封圈防止泄露；当打开时，同上述原理相同，驱动控制方向相反，使密封门体上升到炉体上方；该设计不仅可使炉体进行密封，防止泄露，且方便驱动，避免人体以及密封门与送片机相撞。

技术领域

本实用新型涉及PECVD设备技术领域，具体为一种PECVD设备的炉门结构。

背景技术

PECVD中文全称为离子体增强化学气相淀积，设备主要用于硅片太阳能器件制造中减反射膜的镀膜工艺，炉体是镀膜工艺的反应腔室，需要固定在支撑横梁上；现有的炉体都是通过人工闭合密封锁紧门体，使加工件进出炉体内，其较为费力，同时由于炉体具有一定高度，因此操作较为不便；

因为现有技术中，推舟送片机都是自动控制移动进出炉体内，而且现有的炉体密封门都是侧翻打开，其打开翻转程度较小，容易与送片机相撞，进而造成较大损失；同时在人体控制炉体上密封门打开时，若操作不当，也容易发生送片机撞击人体，或者密封强度不佳，影响加工镀膜效果，为此，现设计一种 PECVD设备的炉门结构。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种PECVD设备的炉门结构，以解决炉门闭合翻转与送片机相撞，或误伤人体，同时保证密封性。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种PECVD设备的炉门结构，包括：

炉体；

封闭结构，固定安置于炉体一端上方；

辅助密封结构，分别固定安置于炉体一端下壁；

还包括：支撑台以及托板，所述支撑台固定焊接于炉体下壁，且位于中心部位处，所述托板固定焊接于炉体右端下壁面，且位于中心部位处；

所述封闭结构，包括：安装架、一对结构相同的滑块、密封门、液压缸以及密封圈；

所述安装架底端两侧分别固定焊接于炉体右端前后两侧壁上，且其右侧壁沿内均开设有结构相同的滑槽，一对所述滑块分别活动装配于滑槽内，一对所述密封门其后侧壁左右两端分别固定焊接于滑块上，且位于中心部位处，所述液压缸固定焊接于安装架顶端下壁面，且其伸缩端固定焊接于门体顶端，所述密封圈固定安置于炉体右侧壁沿上。

优选的，所述辅助密封结构，包括：第一辅助密封部与第二辅助密封部，其第一辅助密封部与第二辅助密封部相同，且分别倾斜安置于炉体下壁面，并位于中心线前后两侧相互对称；

所述第一辅助密封部，包括：安装杆、移动管、弹簧、压紧杆、传动杆以及气缸；

所述安装杆其一端焊接于炉体右端侧壁面，且位于靠近底端部位处，所述移动管活动套装于安装杆上，且位于中心部位处，所述弹簧活动套装于安装杆另一端上，且位于另一端与移动管之间，所述压紧杆其中心部位处活动安置于安装杆另一端上，所述传动杆其一端活动连接于压紧杆一端上，且其另一端活动连接于移动管上，所述气缸其一端倾斜活动安置于支撑台上壁面，其另一端活动连接于驱动杆另一端上。

优选的，所述压紧杆为L型结构。

优选的，所述安装杆为L型结构，且其中心部位为圆杆状结构。

优选的，所述托板为L型结构。

优选的，所述安装架为门型框架结构。