[实用新型]一种平板式PECVD专用托盘有效
申请号: | 201921972935.0 | 申请日: | 2019-11-15 |
公开(公告)号: | CN211394618U | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 陈金元 | 申请(专利权)人: | 理想万里晖真空装备(泰兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 刘静宇 |
地址: | 225400 江苏省泰*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种平板式PECVD专用托盘,包括:托盘主体;通口,四个所述通口沿前后方向间隙开设在托盘主体的顶端;十字杆,所述十字杆安装在通口的内腔底端;第一插槽,两个所述第一插槽分别开设在托盘主体的左侧前后两端;第二插槽,所述第二插槽开设在第一插槽的内腔底端;还包括卡紧机构、插块和通孔,两个所述卡紧机构固定安装在托盘主体的上表面左侧前后两端与第一插槽相对应位置。该平板式PECVD专用托盘,可实现相邻的托盘拼接组装在一起,便于根据所需承载硅片的数量对托盘进行逐步拼接扩展,并且部分出现损坏时,可将出现损坏部分拆卸下来进行更换,无需整体更换,避免造成浪费,满足企业的使用需求,有利于广泛推广。 | ||
搜索关键词: | 一种 平板 pecvd 专用 托盘 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的