[实用新型]同轴多波段反射式消像旋光学系统有效
| 申请号： | 201921707100.2 | 申请日： | 2019-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN210864180U | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 杜晓宇;杨加强;彭晴晴;李江勇;王诚 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G02B26/10 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 于金平 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种同轴多波段反射式消像旋光学系统，同轴多波段反射式消像旋光学系统包括：扫描件；成像组件，成像组件与扫描件沿第一方向间隔设置；反射组件，反射组件可旋转地设置于扫描件与成像组件之间；光线经扫描件后入射至反射组件，光线在反射组件内多次反射后入射至成像组件。采用本实用新型，利用反射组件对光线进行多次反射，以实现消像旋功能，不仅可以使得该消像旋光学系统适用于多波段光线，还可以保证该消像旋光学系统的光学性能和高质量像质。 | ||
| 搜索关键词： | 同轴 波段 反射 式消像旋 光学系统 | ||
【主权项】：
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