[实用新型]同轴多波段反射式消像旋光学系统有效
申请号: | 201921707100.2 | 申请日: | 2019-10-12 |
公开(公告)号: | CN210864180U | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 杜晓宇;杨加强;彭晴晴;李江勇;王诚 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08;G02B26/10 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 于金平 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 同轴 波段 反射 式消像旋 光学系统 | ||
本实用新型公开了一种同轴多波段反射式消像旋光学系统,同轴多波段反射式消像旋光学系统包括:扫描件;成像组件,成像组件与扫描件沿第一方向间隔设置;反射组件,反射组件可旋转地设置于扫描件与成像组件之间;光线经扫描件后入射至反射组件,光线在反射组件内多次反射后入射至成像组件。采用本实用新型,利用反射组件对光线进行多次反射,以实现消像旋功能,不仅可以使得该消像旋光学系统适用于多波段光线,还可以保证该消像旋光学系统的光学性能和高质量像质。
技术领域
本实用新型涉及光学技术领域,尤其涉及一种同轴多波段反射式消像旋光学系统。
背景技术
相关技术中,利用45°旋转扫描反射镜扫描由于其自身的优势已经成为一种常用的光机扫描模式,在搜索跟踪系统、空间大范围扫描成像系统等领域有着广泛应用。但是,这种扫描方式通常会造成物空间的垂直线与探测器在旋转扫描的过程中产生变化的角度,即成像像面在探测器上会随扫描以光轴为旋转轴旋转,因此,需要利用消像旋装置对其进行改进。
消像旋通常通过一下两种方法实现,其一,利用专门的消像旋光学系统进行直接消像旋,称为光学消像旋;其二,利用图像处理的方式在系统成像后期进行,称为电子消像旋。由于电子消像旋在实际使用过程中有程序复杂、图像数据有变形、延迟时间长等缺陷,所以光学消像旋仍然是工程应用中比较普遍的消像旋方法。
常用的光学消像旋装置有道威棱镜、K镜。其中,道威棱镜的设计原理简单,但是由于其材料本身的特性限制而不能在多波段下使用,而且尺寸一般较大,给电机选用、系统负载等方面带来困难和问题。K镜由三片全反射镜构成,因其三面反射镜呈K字排列而得名,其使用回转半径和长度的确定比较困难,同时K镜的整体性较差,装调精度更是存在技术难点。另外,这两种消像旋装置在使用过程中均没有实入瞳和实出瞳,也给系统装调会带来一定的困难。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种同轴多波段反射式消像旋光学系统,用以解决现有技术中消像旋装置不适用多波段光学系统、加工和装调困难的问题。
本实用新型实施例提出一种同轴多波段反射式消像旋光学系统,包括:
扫描件;
成像组件,所述成像组件与所述扫描件沿第一方向间隔设置;
反射组件,所述反射组件可旋转地设置于所述扫描件与所述成像组件之间;
光线经所述扫描件后入射至所述反射组件,光线在所述反射组件内多次反射后入射至所述成像组件。
根据本实用新型的一些实施例,所述反射组件包括:
第一平面镜;
第二平面镜,所述第二平面镜与所述第一平面镜沿所述第一方向间隔设置;
消像旋装置,所述消像旋装置位于所述第一平面镜与所述第二平面镜之间,所述消像旋装置包括相对且沿第二方向间隔设置的第一反射镜和第二反射镜,所述第二方向与所述第一方向垂直;
光线经所述第一平面镜反射后入射至所述消像旋装置,光线在所述第一反射镜与所述第二反射镜之间多次反射后入射至所述第二平面镜。
在本实用新型的一些实施例中,所述第一反射镜包括依次沿所述第一方向设置的第一反射面、第二反射面和第三反射面;
所述第二反射镜包括依次沿所述第一方向设置的第四反射面和第五反射面;
光线经所述第一反射面反射至第四反射面,光线经所述第四反射面反射至第二反射面,光线经所述第二反射面反射至第五反射面,光线经所述第五反射面反射至第三反射面。
在本实用新型的一些示例中,所述第一反射面、所述第二反射面、所述第三反射面均为凹面反射面,且所述第一反射面与所述第三反射面的形状相同。
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