[实用新型]一种半导体装置有效
申请号: | 201921625664.1 | 申请日: | 2019-09-26 |
公开(公告)号: | CN211265463U | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 黄建文 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王龙 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种半导体装置。在各实施例中,一种半导体装置包括半导体衬底,所述半导体衬底包括第一表面和相对于所述第一表面的第二表面;钝化层(passivation layer),其位于所述半导体衬底的所述第一表面上;其特征在于,所述半导体装置还包括:第一导体杯状结构(conductive cup structure),其位于所述钝化层上;及势垒层(barrier layer),其位于所述第一导体杯状结构中。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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