[实用新型]一种用于薄柔薄膜基底的固定平台有效
| 申请号： | 201921599421.5 | 申请日： | 2019-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN210995071U | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 冯宗宝;欧阳俊波;张海銮;程园园;崔阳阳;郑永强;韩长峰;钱磊;张德龙 | 申请（专利权）人： | 苏州威格尔纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B05C13/02 | 分类号： | B05C13/02;B05D3/02 |
| 代理公司： | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人： | 孟宏伟 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种用于薄柔薄膜基底的固定平台，包括有基台，所述基台的表面设置有用于支撑薄柔基底的台面，所述台面区间内设置有用于薄柔基底涂布的涂布机，所述基台包括有涂布区以及位于所述涂布区两侧的固定区，所述固定区设置有若干个真空吸附孔，所述真空吸附孔连接有真空发生器，所述涂布机在所述涂布区内对薄柔基底进行涂布；薄柔基底平铺在台面上，真空吸附孔通过真空发生器产生的负压将位于固定区内的薄柔基底固定在固定区内，固定区设置在涂布区的两侧，从而使得涂布区内的薄柔基底平铺且薄柔基底的表面不会出现凹坑，从而保证对涂布区内的薄柔基底进行高精涂布过程中涂布厚度的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 薄膜 基底 固定 平台 | ||
【主权项】：
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