[实用新型]一种用于薄柔薄膜基底的固定平台

权利要求书

1.一种用于薄柔薄膜基底的固定平台，包括有基台，所述基台的表面设置有用于支撑薄柔基底的台面，所述台面区间内设置有用于薄柔基底涂布的涂布机，其特征在于，所述基台包括有涂布区以及位于所述涂布区两侧的固定区，所述固定区设置有若干个真空吸附孔，所述真空吸附孔连接有真空发生器，所述涂布机在所述涂布区内对薄柔基底进行涂布。

2.根据权利要求1所述的固定平台，其特征在于，所述涂布区设置有加热装置。

3.根据权利要求1所述的固定平台，其特征在于，两所述固定区对称设置在所述涂布区的两侧。

4.根据权利要求1或3所述的固定平台，其特征在于，所述固定区与所述涂布区位于同一平面内。

5.根据权利要求1或3所述的固定平台，其特征在于，所述固定区呈外凸的弧形结构，所述固定区的边缘与所述涂布区连接。

6.根据权利要求4所述的固定平台，其特征在于，所述真空吸附孔与固定区的弧面相切。

7.根据权利要求1或3所述的固定平台，其特征在于，所述固定区朝远离所述涂布区的一侧倾斜设置，所述固定区的边缘与所述涂布区连接。

8.根据权利要求7所述的固定平台，其特征在于，所述真空吸附孔垂直于所述固定区的板面和/或所述真空吸附孔与固定区的面板呈夹角设置。

9.根据权利要求1所述的固定平台，其特征在于，所述真空发生器连接有用于控制所述真空发生器工作状态的控制器。