[实用新型]一种脉冲激光沉积镀膜装置

摘要

本实用新型公开一种脉冲激光沉积镀膜装置，包括真空镀膜室、脉冲激光器、电子源、旋转靶座和可加热旋转的基片架，所述旋转靶座、电子源和基片架设于真空镀膜室中，所述旋转靶座周向环绕分布有六种不同的靶材，所述基片架夹设有基片，所述旋转靶座与基片架横向相对设置，并且所述旋转靶座的中心线与基片架的中心线相互叠合，所述电子源为两个，两个电子源分设于基片架的两侧，所述真空镀膜室周向设有多个透光窗，所述脉冲激光器发出的激光束穿过透光窗射入靶材上。本实用新型能调整激光束射入靶材的角度，方便研究制备高端薄膜，且能使薄膜更加致密，提高镀膜质量，有效提高镀膜的沉积效率，方便制备多种材料的多层薄膜。