[实用新型]一种空心阴极磁控溅射靶有效

专利信息
申请号: 201921520017.4 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN210481507U 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 钱进;韩晓 申请(专利权)人: 沈阳奇汇真空技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 110000 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种空心阴极磁控溅射靶,包括密封管和绝缘套,绝缘套通过内六角螺栓固定安装于密封管的外部,密封管的内部开设有镀膜腔,且密封管的侧壁内开设有水冷腔,靶安装口的上侧壁开设有管接头,环形磁铁之间交替固定安装有铁轭,采用空心阴极方式,靶材为圆筒型,被镀材料安装在圆筒的中心区域,镀膜材料进行轴向运动,靶材实现向心溅射。与市面上普遍采用的磁控靶相比,它起辉稳定,不放电,不拉弧,且能镀各种形状材料,均匀性好,可以实现更完美的真空镀膜,空心阴极被称为是未来的镀膜技术,几个重大技术问题的存在阻碍了它的普遍采用,不过这种情况会慢慢发生了改变。
搜索关键词: 一种 空心 阴极 磁控溅射
【主权项】:
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