[实用新型]一种空心阴极磁控溅射靶

说明书

本实用新型公开了一种空心阴极磁控溅射靶，包括密封管和绝缘套，绝缘套通过内六角螺栓固定安装于密封管的外部，密封管的内部开设有镀膜腔，且密封管的侧壁内开设有水冷腔，靶安装口的上侧壁开设有管接头，环形磁铁之间交替固定安装有铁轭，采用空心阴极方式，靶材为圆筒型，被镀材料安装在圆筒的中心区域，镀膜材料进行轴向运动，靶材实现向心溅射。与市面上普遍采用的磁控靶相比，它起辉稳定，不放电，不拉弧，且能镀各种形状材料，均匀性好，可以实现更完美的真空镀膜，空心阴极被称为是未来的镀膜技术，几个重大技术问题的存在阻碍了它的普遍采用，不过这种情况会慢慢发生了改变。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，具体为一种空心阴极磁控溅射靶。

背景技术

溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。由于空心阴极磁控靶技术尚未普及，其中以圆柱型磁控靶为样式比较单一，仅起到了镀平面基片作用，镀异性基片不能使用，且市面上尚没有可镀丝材，或者长径比大的零部件的磁控溅射镀膜靶。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种空心阴极磁控溅射靶，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种空心阴极磁控溅射靶，包括密封管和绝缘套，所述绝缘套通过内六角螺栓固定安装于密封管的外部，所述密封管的内部开设有镀膜腔，且密封管的侧壁内开设有水冷腔，所述密封管的外侧壁一体成型有靶安装口，且密封管的内部均匀固定安装有环形磁铁。

优选的，所述靶安装口的上侧壁开设有管接头。

优选的，所述环形磁铁(或矩形磁铁排列成环形)之间交替固定并安装有铁轭。

优选的，所述密封管的两侧开口处固定安装有阳极屏蔽板。

优选的，所述屏蔽板的内侧壁一体成型有固定安装于环形磁铁与密封管之间的环形垫片。

优选的，所述密封管的内腔和管接头通过靶安装口的内腔相互连通。

优选的，靶材为空心圆筒形状。内表面为溅射面。

优选的，被镀产品从靶材中心通过。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：一种空心阴极磁控溅射靶，采用空心阴极方式，靶材为圆筒型，被镀材料安装在圆筒的中心区域，镀膜材料进行轴向运动，靶材实现向心溅射。与市面上普遍采用的磁控靶相比，它起辉稳定，无异常放电，无异常拉弧，且能镀各种形状材料，均匀性好，可以实现更完美的真空镀膜，空心阴极被称为是未来的镀膜技术，几个重大技术问题的存在阻碍了它的普遍采用，不过这种情况会慢慢发生了改变。

附图说明

图1为本实用新型的内部结构示意图。

图中：1密封管、2绝缘套、3管接头、4内六角螺栓、5铁轭、6环形磁铁、7屏蔽板、8靶安装口、9水冷腔、10环形垫片、11镀膜腔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。