[实用新型]一种真空多弧离子镀膜机

摘要

本实用新型公开了一种真空多弧离子镀膜机，涉及离子镀膜技术领域，其包括机体和在机体内相邻设置的真空室与磁体缸体，所述磁体缸体设于真空室上方，所述真空室内安装有靶材，所述磁体缸体内安装有在朝向靶材方向移动的导向杆、用于压迫导向杆朝向靶材移动的弹性件、以及固定安装在导向杆上的永磁体，所述靶材位于永磁体下方，还包括用于调节永磁体与靶材距离的调节装置，所述调节装置包括穿设于磁体缸体侧壁并与磁体缸体滑移连接的推杆、以及设于磁体缸体内并与推杆固定连接的楔形块，所述导向杆在楔形块的运动路径上固定设置有导向块，所述导向块设有与楔形块相配合的斜面，所述导向块通过斜面抵接在楔形块背离靶材的一侧。