[实用新型]一种真空多弧离子镀膜机

权利要求书

1.一种真空多弧离子镀膜机，包括机体(1)和在机体(1)内相邻设置的真空室(2)与磁体缸体(3)，所述磁体缸体(3)设于真空室(2)上方，所述真空室(2)内安装有靶材(21)，所述磁体缸体(3)内安装有在朝向靶材(21)方向移动的导向杆(61)、用于压迫导向杆(61)朝向靶材(21)移动的弹性件(64)、以及固定安装在导向杆(61)上的永磁体(32)，所述靶材(21)位于永磁体(32)下方，

其特征在于，还包括用于调节永磁体(32)与靶材(21)距离的调节装置(4)，所述调节装置(4)包括穿设于磁体缸体(3)侧壁并与磁体缸体(3)滑移连接的推杆(41)、以及设于磁体缸体(3)内并与推杆(41)固定连接的楔形块(42)，所述导向杆(61)在楔形块(42)的运动路径上固定设置有导向块(62)，所述导向块(62)设有与楔形块(42)相配合的斜面(63)，所述导向块(62)通过斜面(63)抵接在楔形块(42)背离靶材(21)的一侧。

2.根据权利要求1所述的一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，所述调节装置(4)还包括安装于磁体缸体(3)的外壁上的微分头(43)，所述微分头(43)与推杆(41)相连，所述微分头(43)通过旋转以控制推杆(41)向磁体缸体(3)内或向磁体缸体(3)外移动。

3.根据权利要求2所述的一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，所述调节装置(4)还包括安装于机体(1)上的伺服电机(44)，所述伺服电机(44)的转动轴与微分头(43)相连，所述伺服电机(44)通过驱动微分头(43)旋转以控制推杆(41)向磁体缸体(3)内或向磁体缸体(3)外移动。

4.根据权利要求1所述的一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，还包括安装于靶材(21)底部的旋转装置(5)，所述旋转装置(5)包括用于固定靶材(21)的旋转盘(51)和用于驱动旋转盘(51)旋转的旋转电机(52)。

5.根据权利要求4所述的一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，所述的永磁体(32)包括安装盘(321)与设置于安装盘(321)上的若干磁铁(322)，所述磁铁(322)呈圆环间隔排列。

6.根据权利要求5所述的一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，所述靶材(21)的上表面与旋转盘(51)相平行，所述安装盘(321)与旋转盘(51)相平行。

7.根据权利要求1所述的一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，所述磁体缸体(3)的侧壁设有用于穿过推杆(41)的滑道(31)，所述推杆(41)在滑道(31)内滑移并与滑道(31)滑动连接。