[实用新型]一种用于防止非靶材料溅射的装置有效

专利信息
申请号: 201921338676.6 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN210341047U 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 高瑞峰;周骏贵;祁雪峰 申请(专利权)人: 南京市产品质量监督检验院;高瑞峰
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210019 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种用于防止非靶材料溅射的装置,适用于解决现有磁控溅射技术中的周圈间隙放电导致外框的原子被溅射出来污染膜层的问题,包括一圈绝缘材料和一圈高磁导率的软磁材料,分别简称绝缘层和软磁层。绝缘层和软磁层被紧密安装在磁控溅射阴极靶外框的外侧,绝缘层在外框和软磁层之间。软磁层选用易饱和、高磁导率的软磁材料制作。绝缘层采用耐高温的聚合物制作。该装置能够有效消除靶材侧面打火和溅射出非靶材料的可能性,并具有磁屏蔽作用,并可大幅降低对屏蔽罩或外框的加工精度要求。
搜索关键词: 一种 用于 防止 材料 溅射 装置
【主权项】:
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