[实用新型]一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座有效

专利信息
申请号: 201921316492.X 申请日: 2019-08-14
公开(公告)号: CN210600709U 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 商富祥;商富彬 申请(专利权)人: 江苏瑞鑫集成电路设备有限公司
主分类号: F16M5/00 分类号: F16M5/00;F16F15/04
代理公司: 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 代理人: 毛洪梅
地址: 224000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及隔振基座技术领域,具体为一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板,支撑板下端设置有若干均匀分布的横梁柱,横梁柱上设置有若干均匀分布的支撑装置,支撑装置包括横撑杆、立柱和X型支架,立柱的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱贯穿立柱的方形凹槽,立柱中嵌入有若干均匀分布的吸收装置,吸收装置包括定位座、牵制体、控制球、压力壳体和弹簧,本实用新型构造设计实现震动能量被若干吸收装置高效稳定的吸收,同时定位座的圆锥状设计不会影响立柱的支撑稳定性,这样避免震动通过基座影响到电子无尘室中的机器设备,对装置进行保护,提高无尘室的使用寿命。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 光电子 无尘室 基座
【主权项】:
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