[实用新型]一种全自动晶片清洗机有效

专利信息
申请号: 201921230901.4 申请日: 2019-08-01
公开(公告)号: CN210546730U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 窦功禄 申请(专利权)人: 西安拉姆达电子科技有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/08;B08B3/04;B08B13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710077 陕西省西安市高*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型涉及一种全自动晶片清洗机,由横向排列的多个洗液槽和位于洗液槽上方的网框移动装置组成。洗液槽为装有化学剂洗液的化学剂洗槽和装有纯水的水洗槽:化学剂洗槽的底部有收集口,水洗槽的顶部有进水口,底部有排水口;网框移动装置,由位于洗液槽上方的水平导轨和上端与水平导轨连接的垂直导轨构成,垂直导轨的下端固定有网框。计算机控制垂直导轨沿水平导轨左右移动,使网框水平或上下抛动,并通过计算机和超声仪、温度传感器,控制洗液槽内洗液的温度和超声波装置。该晶片清洗机,既能保证晶片的清洗质量,又省工、省力、省时,大大降低了晶片的清洗成本,提高了晶片的清洗质量。
搜索关键词: 一种 全自动 晶片 清洗
【主权项】:
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