[实用新型]一种用于制备氧化钼纳米片表面增强拉曼散射基底的装置有效

专利信息
申请号: 201921225236.X 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN210322798U 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 陈秋兰;陈建;金浩宇;刘虔铖 申请(专利权)人: 广东食品药品职业学院
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65
代理公司: 深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙) 44585 代理人: 钟斌
地址: 510000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及分子检测技术领域,具体涉及一种用于制备氧化钼纳米片表面增强拉曼散射基底的装置,包括石英管、活动套设于石英管外壁的移动加热圈、放置于石英管内部用于承载氧化钼粉末的坩埚以及放置于石英管内部的衬底,坩埚的顶部设置有遮挡片;石英管的一端设置有进气连接件、另一端设置有出气连接件。本实用新型的气相沉积装置结构新颖,易于操作使用,采用气相沉积的方法,通过移动加热圈对石英管对应坩埚的位置进行加热,使得氧化钼粉末升华,然后移走移动加热圈,撤离热源,使得升华后的氧化钼在较低温的衬底表面形成大面积的氧化钼纳米薄层,并能使制得的氧化钼纳米薄层检测限高,均匀性好,稳定性优异,实用性高。
搜索关键词: 一种 用于 制备 氧化钼 纳米 表面 增强 散射 基底 装置
【主权项】:
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