[实用新型]双工位超声硅片清洗设备

摘要

本实用新型公开了双工位超声硅片清洗设备，包括工作台，所述工作台顶部两边均焊接有立柱，且两根立柱的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台，所述电动滑台滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机，且推杆电机的输出轴连接有顶部开口的网箱，所述工作台顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽、与水槽底部连接的下水管、与下水管连接的过滤盒、与过滤盒连接的水泵、通过导管与水泵、存储筒和水龙头。本实用新型能够在清洗液水槽清洗完硅片后通过电动滑台和推杆电机将硅片转运至纯水水槽内，能够清洗硅片表面残留的清洗液，能够对清洗液和纯水进行重复利用。