[实用新型]双工位超声硅片清洗设备

说明书

本实用新型公开了双工位超声硅片清洗设备，包括工作台，所述工作台顶部两边均焊接有立柱，且两根立柱的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台，所述电动滑台滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机，且推杆电机的输出轴连接有顶部开口的网箱，所述工作台顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽、与水槽底部连接的下水管、与下水管连接的过滤盒、与过滤盒连接的水泵、通过导管与水泵、存储筒和水龙头。本实用新型能够在清洗液水槽清洗完硅片后通过电动滑台和推杆电机将硅片转运至纯水水槽内，能够清洗硅片表面残留的清洗液，能够对清洗液和纯水进行重复利用。

技术领域

本实用新型涉及清洗设备技术领域，尤其涉及双工位超声硅片清洗设备。

背景技术

由于硅片关键尺寸的持续缩小，硅片表面在经受工艺之前必须是洁净的。控制沾污最有效途径是防止沾污硅片，其中占统治地位的硅片表面清洗方法是湿化学法，湿化学法是用化学药剂与硅片表面需要去除的沾污物进行反应，使得沾污物从硅片表面剥离从而达到清洗的目的。

为此中国专利(申请号201110193925.9)提出了“硅片清洗设备以及储液罐”，该清洗设备随着化学药剂与硅片表面的沾污物反应，化学药剂逐渐被消耗后，去除硅片污渍的效率降低。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的双工位超声硅片清洗设备。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

双工位超声硅片清洗设备，包括工作台，所述工作台顶部两边均焊接有立柱，且两根立柱的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台，所述电动滑台滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机，且推杆电机的输出轴连接有顶部开口的网箱，所述工作台顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽、与水槽底部连接的下水管、与下水管连接的过滤盒、与过滤盒连接的水泵、通过导管与水泵、存储筒和水龙头，所述存储筒、水泵的出水端和水龙头的进水口通过三通和连接管相连接，所述工作台上安装有超声波发生器，且超声波发生器的震动子分别固定于两个水槽的底部。

优选的，所述网箱两侧外壁的顶部焊接有同一根连接杆，且连接杆的中部焊接有套管，推杆电机的输出轴通过螺栓与套管连接。

优选的，所述工作台两侧外壁均焊接有安装板，且两个水泵分别固定于两个安装板上。

优选的，所述过滤盒包括盒体和卡接于盒体顶部的顶盖，且盒体的两侧内壁上从上往下依次固定有第一过滤网、第二过滤网、第三过滤网，所述第一过滤网、第二过滤网、第三过滤网的网孔孔径依次减小。

优选的，两个存储筒内分别存储有清洗液和纯水。

优选的，所述电动滑台、推杆电机、两个水泵和超声波发生器分别连接有开关，且五个开关依次安装于工作台顶部，五个所述开关分别连接有电源线。

本实用新型的有益效果为：

1、通过在两个清洗机构内分别盛放清洗液和纯水，能够在清洗液水槽清洗完硅片后通过电动滑台和推杆电机将硅片转运至纯水水槽内，能够清洗硅片表面残留的清洗液；

2、通过过滤盒能够分别对清洗液和纯水中的杂质进行过滤，能够对清洗液和纯水进行重复利用，在水槽内的清洗液和纯水脏污后可从存储筒内放出洁净的清洗液和纯水。

附图说明

图1为本实用新型提出的双工位超声硅片清洗设备的结构示意图；

图2为本实用新型提出的双工位超声硅片清洗设备的过滤盒结构示意图；

图3为本实用新型提出的双工位超声硅片清洗设备的网箱结构示意图。