[实用新型]一种阴极电弧及溅射沉积源有效
| 申请号： | 201921145191.5 | 申请日： | 2019-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN210237760U | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 向必忠;温海涛 | 申请（专利权）人： | 厦门铭意真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 厦门律嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 35225 | 代理人： | 温洁;李增进 |
| 地址： | 361000 福建省厦*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种阴极电弧及溅射沉积源，包括法兰盘、牙套、靶材、屏蔽组件、绝缘隔板、引弧装置、冷却板和磁场可调的磁力装置。牙套固设在法兰盘顶部中心处，靶材固定安装牙套内，屏蔽组件固设在靶材外侧，绝缘隔板固设在屏蔽组件的外侧。引弧装置包括引弧发生器、放电针和活动栓，引弧发生器固定在法兰盘上，放电针设在靶材的上方，冷却板固设在法兰盘的底部，冷却板的内部设有循环冷却水路，冷却板的底部设有分别与循环冷却水路相连通的进水口和出水口，磁力装置固定安装在冷却板底部。本实用新型可通过磁力装置来调整磁场的大小，进而使得弧斑在工件上产生不同沉积效果；阴极座与法兰盘合二为一，冷却水路一体化，结构简单且冷却效果佳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阴极 电弧 溅射 沉积 | ||
【主权项】：
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