[实用新型]一种陶瓷真空镀铜预处理窑有效

专利信息
申请号: 201921115253.8 申请日: 2019-07-17
公开(公告)号: CN210464016U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 乔利杰;宋述兵;杨会生;庞晓露;王瑞俊;郑宝林 申请(专利权)人: 山东司莱美克新材料科技有限公司
主分类号: F27B17/00 分类号: F27B17/00;C23C14/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 255000 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种陶瓷真空镀铜预处理窑,包括隧道窑,所述隧道窑一端密封,另一端设置有液压插板阀;所述隧道窑内两侧轴向设置有滑轨;所述隧道窑内于滑轨之间安装有风管撑脚;所述风管撑脚上固定有风管;所述风管上间隔安装有多组轰击罩;所述轰击罩与风管内部连通;所述风管靠近液压插板阀一端密封,另一端固定到进气法兰;所述进气法兰固定于隧道窑其密封一端外部;本实用新型的陶瓷真空镀铜预处理窑,通过镀膜舱室热风对陶瓷基材进行预处理,预处理时,通过热风直接轰击镀膜面,同时镀膜舱室内,采用高温和抽真空同步动作,将镀膜舱室内的陶瓷进行加热和间隙杂质抽离,提高镀膜层和陶瓷的结合力。
搜索关键词: 一种 陶瓷 真空 镀铜 预处理
【主权项】:
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