[实用新型]一种陶瓷真空镀铜预处理窑

说明书

本实用新型公开了一种陶瓷真空镀铜预处理窑，包括隧道窑，所述隧道窑一端密封，另一端设置有液压插板阀；所述隧道窑内两侧轴向设置有滑轨；所述隧道窑内于滑轨之间安装有风管撑脚；所述风管撑脚上固定有风管；所述风管上间隔安装有多组轰击罩；所述轰击罩与风管内部连通；所述风管靠近液压插板阀一端密封，另一端固定到进气法兰；所述进气法兰固定于隧道窑其密封一端外部；本实用新型的陶瓷真空镀铜预处理窑，通过镀膜舱室热风对陶瓷基材进行预处理，预处理时，通过热风直接轰击镀膜面，同时镀膜舱室内，采用高温和抽真空同步动作，将镀膜舱室内的陶瓷进行加热和间隙杂质抽离，提高镀膜层和陶瓷的结合力。

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷镀铜预处理设备，具体涉及一种陶瓷真空镀铜预处理窑，属于真空镀膜技术领域。

背景技术

真空镀膜是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程；它的作用是可以使某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能；PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）；真空蒸发镀膜一般应用于纯度极高的膜、绝缘物的蒸镀和高熔点物质的蒸镀，其是在真空情况下，将所要蒸镀的材料利用加热设备加热到融化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜方式；镀膜和基材结合力是否牢固，即镀膜和基材的附着力大小，是判断镀膜质量好坏的一个指标，其中，陶瓷镀铜膜其在镀膜前，需要对陶瓷进行清洗和烘干等作业，由于陶瓷前处理过程中，陶瓷表面残存水汽和其他气体杂质，如果直接对其进行镀膜，容易影响铜膜和陶瓷结合力，造成产品质量不合格。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型提出了一种陶瓷真空镀铜预处理窑，通过真空镀膜舱室的热气对陶瓷基材进行预处理，提高镀膜层和陶瓷的结合力。

本实用新型的陶瓷真空镀铜预处理窑，采用将真空镀膜舱室内的热气抽送到预处理窑中，对预处理窑内的陶瓷其镀膜面进行热风轰击，真空镀膜舱室内的陶瓷在镀膜前，持续升温和抽气，直到真空镀膜舱室内升温到指定温度和指定真空值时，真空镀膜舱室的加热设备和抽气泵进行温度保持和压力保持，等待预定时间后，进入下一制程；即进入镀膜制程；加热设备持续加热过程中，真空镀膜舱室内的陶瓷被加热，其表面水汽和杂质被抽真空设备抽离，保证陶瓷表面的纯净度，提高陶瓷镀膜的附着性；真空镀膜舱室内的热气直接打在预处理窑内的陶瓷上，其模拟陶瓷真空镀膜附着过程，通过热气直接对陶瓷表面进行轰击，直接将陶瓷表面杂质和间隙水汽进行接触式冲击；当进入到陶瓷真空镀膜舱室后，其完成二次加热和排气抽离，提高陶瓷表面的处理能力；预处理窑预处理过程和镀膜舱室同步进行，镀膜舱室完成镀膜出料后，预处理窑内的陶瓷同步进行出料，并将完成预处理陶瓷送入到真空镀膜舱室；预处理窑结构具体如下：包括隧道窑，所述隧道窑一端密封，另一端设置有液压插板阀；当完成进料后，液压插板阀处于敞开状态，直到真空镀膜舱室内温度达到设定值时，将液压插板阀关闭，此时，隧道窑处于封闭状态，镀膜舱室处于半真空状态，此时，抽真空泵持续动作，镀膜舱室处于真空状态，隧道窑内压力略高于大气压，其持续将低热风到高热风冲击陶瓷镀膜面，从而能够将陶瓷镀膜面进行加热预处理；所述隧道窑内两侧轴向设置有滑轨；所述隧道窑内于滑轨之间安装有风管撑脚；所述风管撑脚上固定有风管；所述风管上间隔安装有多组轰击罩；所述轰击罩与风管内部连通；所述风管靠近液压插板阀一端密封，另一端固定到进气法兰；所述进气法兰固定于隧道窑其密封一端外部；所述进气法兰连接到镀铜舱室抽真空排气设备；所述滑轨上滑动安装有车架；所述车架底部设置有与滑轨活动安装的导轮；所述车架顶部安装有陶瓷基板摆放架；预处理时，将陶瓷基本摆放到陶瓷基板摆放架上，接着，将车架推入到隧道窑，并使车架端部贴紧隧道窑内面；完成陶瓷基板的上料，接着直接进行低热风到高热风对陶瓷表面轰击，完成对陶瓷镀膜面的模拟镀膜处理，从而保证镀膜时，能够去除陶瓷镀膜面的杂质干扰。