[实用新型]一种半导体单片集成电路的光刻设备有效

专利信息
申请号: 201920984552.9 申请日: 2020-03-04
公开(公告)号: CN210402010U 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 李子考;喻凤翔 申请(专利权)人: 盐城华旭光电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京华际知识产权代理有限公司 11676 代理人: 范登峰
地址: 224014 江苏省盐城市盐都*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体单片集成电路的光刻设备,包括底座,所述底座上表面两端分别设置有收缩杆,且底座上表面设置有喷胶台,所述喷胶台一侧设置有软烘台,所述软烘台一侧设置有曝光台,所述收缩杆上端设置有移动杆,且收缩杆一侧设置有固定螺丝,所述移动杆上端连接有背墙,所述背墙一侧设置有移动轨道,所述移动轨道下端设置有光刻组件。通过设置移动杆、固定螺丝和收缩杆,可以调节固定螺丝来调节移动杆在收缩杆内部的上下滑动来控制光刻组件与底座的距离,该设计简单,易于操作;通过设置移动器和移动轨道,可以是光刻组件在移动轨道上来回滑动,使光刻组件对底座上的工作台分布操作,该设计简单,减轻了工作人员的工作强度。
搜索关键词: 一种 半导体 单片 集成电路 光刻 设备
【主权项】:
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