[实用新型]一种金属有机化合物化学气相沉积机台有效

专利信息
申请号: 201920866055.9 申请日: 2019-06-10
公开(公告)号: CN210657128U 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 孙明亮;吴明;林宗贤;郭松辉;赵培培 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/34
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供的一种金属有机化合物化学气相沉积机台,所述压环设置在所述底座的上表面,且位于所述基板的外侧,其中,所述压环具有冷却通道、冷却液入口和冷却液出口,所述冷却通道绕所述压环的轴线设置在所述压环内,所述冷却液入口和冷却液出口均与所述冷却通道连通,并匹配设置在所述卡孔中,本实用新型将压环设置为具有冷却通道的结构,使得其可以降低防尘环的温度,减少了TiN在防尘环上的沉积,还降低了边缘环的温度对基板边缘位置上TiN薄膜沉积的速率,从而提高了沉积在晶圆边缘位置上的TiN薄膜的均匀性,降低TiN沉积物剥离对产品良率的影响。
搜索关键词: 一种 金属 有机化合物 化学 沉积 机台
【主权项】:
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