[实用新型]一种氧化物半导体TFT阵列基板有效

专利信息
申请号: 201920646028.0 申请日: 2019-05-05
公开(公告)号: CN209747514U 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 35219 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 林祥翔;徐剑兵<国际申请>=<国际公布>
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种氧化物半导体TFT阵列基板,所述阵列基板包括基板和依次形成在基板上的第一金属层、栅极绝缘层、氧化物半导体有源层、第二金属层、SINx绝缘层和SiOx绝缘层,所述第二金属层的顶部为钼金属层,所述SINx绝缘层位于第二金属层与SiOx绝缘层之间,且SINx绝缘层与第二金属层的图案完全重叠,所述第二金属层形成源极和漏极,所述源极和漏极之间的位置对应的氧化物半导体有源层为沟道区域。在本方案中能够避免第二金属层上的钼金属层与SiOx绝缘层之间形成氧化钼导致SiOx绝缘层的附着性降低,从而解决PV膜浮的发生的问题,进而保证产品的显示效果以及良率,保障产品的信赖性,提高产品竞争力。
搜索关键词: 绝缘层 第二金属层 氧化物半导体有源层 钼金属层 基板 漏极 源极 氧化物半导体 本实用新型 产品竞争力 第一金属层 栅极绝缘层 保障产品 沟道区域 显示效果 阵列基板 附着性 信赖性 氧化钼 良率 图案 保证
【主权项】:
1.一种氧化物半导体TFT阵列基板,其特征在于,包括基板和依次形成在基板上的第一金属层、栅极绝缘层、氧化物半导体有源层、第二金属层、SINx绝缘层和SiOx绝缘层,所述第二金属层的顶部为钼金属层,所述SINx绝缘层位于第二金属层与SiOx绝缘层之间,且SINx绝缘层与第二金属层的图案完全重叠,所述第二金属层形成源极和漏极,所述源极和漏极之间的位置对应的氧化物半导体有源层为沟道区域。/n
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