[实用新型]一种基于纳米簇绝缘层的高性能薄膜晶体管有效

专利信息
申请号: 201920491294.0 申请日: 2019-04-12
公开(公告)号: CN209747523U 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 赵天石;赵春;赵策洲;杨莉 申请(专利权)人: 西交利物浦大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/51;H01L21/34;B82Y10/00;B82Y30/00
代理公司: 32103 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 范晴;吴音<国际申请>=<国际公布>=<
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种基于纳米簇绝缘层的高性能薄膜晶体管,包括衬底、电极、绝缘层和半导体层;所述电极分为栅电极、源电极和漏电极;所述衬底上设置有绝缘层;所述绝缘层和衬底之间设置有栅电极;所述绝缘层上设置有半导体层;所述半导体层上设置有源电极和漏电极。本实用新型半导体层的结合能较高,比较稳定,具有很高的抗偏压、抗辐射特性;制备中通过深紫外退火,起到提高整个器件性能、匹配柔性衬底温度的作用;本工艺流程具有工艺简单、可在空气中低退火温度下进行的优点,生产成本较低。
搜索关键词: 绝缘层 半导体层 衬底 退火 本实用新型 漏电极 源电极 栅电极 电极 结合能 高性能薄膜 器件性能 工艺流程 抗辐射 纳米簇 晶体管 制备 生产成本 匹配
【主权项】:
1.一种基于纳米簇绝缘层的高性能薄膜晶体管,其特征在于:包括衬底、电极、绝缘层和半导体层;所述电极分为栅电极、源电极和漏电极;所述衬底上设置有绝缘层;所述绝缘层和衬底之间设置有栅电极;所述绝缘层上设置有半导体层;所述半导体层上设置有源电极和漏电极;所述衬底为柔性材料;所述绝缘层为纳米簇材料;所述半导体层为金属氧化物半导体层。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西交利物浦大学,未经西交利物浦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920491294.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top