[实用新型]化学品槽和晶圆处理设备有效
| 申请号: | 201920385647.9 | 申请日: | 2019-03-25 |
| 公开(公告)号: | CN209496826U | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
| 发明(设计)人: | 丁洋;崔亚东;王永昌;陈章晏;颜超仁 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤 |
| 地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 该实用新型涉及一种化学品槽和晶圆处理设备,其中化学品槽包括:槽体,用于盛放化学品;补水管路,连通至槽体,用于向槽体内通入水;排酸管路,连通至槽体,用于排出槽体内的化学品;第一磁性堵头,设置到补水管路的入口,用于在磁力的作用下堵住补水管路的入口,防止水经由补水管路进入槽体;第二磁性堵头,设置到排酸管路的出口,用于在磁力的作用下堵住排酸管路的出口,防止化学品经由排酸管路从槽体内排出;电磁装置,设置于两磁性堵头之间,用于在通电时给两磁性堵头提供磁力。上述化学品槽和晶圆处理设备在电磁装置掉电时即刻向槽体内通入水以及将槽体内的化学品排出,防止槽体内的化学品滞留。 | ||
| 搜索关键词: | 化学品 体内 补水管路 磁性堵头 化学品槽 排酸 晶圆处理设备 磁力 槽体 电磁装置 排出 入水 连通 堵住 防止槽 进入槽 排出槽 从槽 掉电 盛放 出口 通电 滞留 | ||
【主权项】:
1.一种化学品槽,其特征在于,包括:槽体,用于盛放化学品;补水管路,连通至所述槽体,用于向所述槽体内通入水;排酸管路,连通至所述槽体,用于排出所述槽体内的化学品;第一磁性堵头,设置到所述补水管路的入口,用于在磁力的作用下堵住所述补水管路的入口,防止水经由所述补水管路进入所述槽体;第二磁性堵头,设置到所述排酸管路的出口,用于在磁力的作用下堵住所述排酸管路的出口,防止化学品经由所述排酸管路从所述槽体内排出;电磁装置,设置于所述第一磁性堵头和第二磁性堵头之间,用于在通电时给所述第一磁性堵头和第二磁性堵头提供磁力,使所述第一磁性堵头堵住所述补水管路的入口,第二磁性堵头堵住所述排酸管路的出口。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





