[实用新型]高分子合成装置

摘要

本实用新型公开了一种高分子合成装置，包括乳化釜和流动反应器，所述流动反应器包括钴源井、反应管路、冷却剂泵、冷凝器以及钴‑60辐射源，所述钴源井内充有冷却剂；所述反应管路螺旋盘绕在所述钴‑60辐射源上，所述钴‑60辐射源置于所述钴源井内并没入冷却剂中，所述乳化釜与所述反应管路的进料口连通。本实用新型通过提供预乳化的处理场所和细长的流动反应场所，以及辐照的加热方式，能够使原料能够充分接触，并有效克服了受热不均、反应不匀的问题，实现连续不断的充分快速反应，能有效保证产物的性能，使合成工艺更加安全、环保、节能、高效；而且，本实用新型结构简单，容易制作，操作方便，具有非常好的应用前景。

主权项

1.高分子合成装置，其特征在于：包括乳化釜和流动反应器，所述流动反应器包括钴源井、反应管路、冷却剂泵、冷凝器以及钴‑60辐射源，所述钴源井内充有冷却剂，所述冷凝器的进液口与所述钴源井连通，所述冷凝器的出液口与所述冷却剂泵的进液口连通，所述冷却剂泵的出液口与所述钴源井连通；所述反应管路螺旋盘绕在所述钴‑60辐射源上，所述钴‑60辐射源置于所述钴源井内并没入冷却剂中，所述乳化釜与所述反应管路的进料口连通。