[实用新型]高分子合成装置

说明书

本实用新型公开了一种高分子合成装置，包括乳化釜和流动反应器，所述流动反应器包括钴源井、反应管路、冷却剂泵、冷凝器以及钴‑60辐射源，所述钴源井内充有冷却剂；所述反应管路螺旋盘绕在所述钴‑60辐射源上，所述钴‑60辐射源置于所述钴源井内并没入冷却剂中，所述乳化釜与所述反应管路的进料口连通。本实用新型通过提供预乳化的处理场所和细长的流动反应场所，以及辐照的加热方式，能够使原料能够充分接触，并有效克服了受热不均、反应不匀的问题，实现连续不断的充分快速反应，能有效保证产物的性能，使合成工艺更加安全、环保、节能、高效；而且，本实用新型结构简单，容易制作，操作方便，具有非常好的应用前景。

技术领域

本实用新型涉及化工领域，具体地说涉及一种高分子合成装置

背景技术

现有技术合成水性高分子乳液的方法为将所有的反应原料和助剂等一同加入到反应釜中，然后给反应釜提供合适的反应温度等条件，使原料在反应釜内进行聚合反应，这种方式虽然能够实现合成，但是，由于原料过于集中，很容易传热不均，反应不匀，而且一般为间歇性生产，难以实现连续生产。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种容易操作控制，能够使原料能够充分接触、均匀受热，实现连续不断的充分快速反应的高分子合成装置。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：高分子合成装置，包括乳化釜和流动反应器，所述流动反应器包括钴源井、反应管路、冷却剂泵、冷凝器以及钴-60辐射源，所述钴源井内充有冷却剂，所述冷凝器的进液口与所述钴源井连通，所述冷凝器的出液口与所述冷却剂泵的进液口连通，所述冷却剂泵的出液口与所述钴源井连通；

所述反应管路螺旋盘绕在所述钴-60辐射源上，所述钴-60辐射源置于所述钴源井内并没入冷却剂中，所述乳化釜与所述反应管路的进料口连通。

进一步地，所述钴源井开设于地下，且顶部开口使用防护盖封闭。

进一步地，所述乳化釜内设有搅拌轴，所述搅拌轴上固定有分散头，所述分散头呈周缘具有锯齿的圆盘状。

进一步地，所述乳化釜内设有搅拌轴，所述搅拌轴上固定有乳化头，所述乳化头的上下两侧均呈城墙状。

进一步地，所述乳化釜的底部设有重力传感器。

进一步地，还包括储罐，所述乳化釜经由所述储罐与所述反应管路的进料口连通，所述储罐内设有第一搅拌器。

进一步地，所述储罐的底部设有重力传感器。

进一步地，还包括后处理釜，所述反应管路的出料口与所述后处理釜连通，所述后处理釜内设有第二搅拌器。

进一步地，所述后处理釜的底部设有重力传感器。

本实用新型的有益效果体现在：

本实用新型通过提供预乳化的处理场所和细长的流动反应场所，以及辐照的加热方式，能够使原料能够充分接触，并有效克服了受热不均、反应不匀的问题，实现连续不断的充分快速反应，且容易控制，能有效保证产物的性能，使合成工艺更加安全、环保、节能、高效；而且，本实用新型结构简单，容易制作，操作方便，适用于工厂化规模生产，具有非常好的应用前景。

附图说明

图1是本实用新型一实施例的结构示意图。

图2是本实用新型一实施例中分散头的结构示意图。

图3是本实用新型一实施例中乳化头的结构示意图。

附图中各部件的标记为：1乳化釜、11搅拌轴、12分散头、13乳化头、14重力传感器、2流动反应器、21护盖、22钴源井、23反应管路、24钴-60辐射源、25冷却剂泵、26冷凝器、3储罐、31第一搅拌器、4后处理釜、41第二搅拌器、5计量泵。